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金(jin)相顯微鏡設備主要之目的(de)可分為:
壹、部品顯微(wei)結構影像分析:其(qi)處(chu)理流程可分下列步驟:
1. 鑲埋:將(jiang)樣品熱(re)埋在180℃且承受30KN荷重于直徑(jing)25.4mm的樹(shu)脂(zhi)模型中達 10分鐘。
2. 研(yan)磨:在完成(cheng)第(di)一步驟(zou)后,首先將(jiang)樣品(pin)使(shi)用(yong)80粒度的MD-Piano磁盤上研(yan)磨2分鐘(zhong),接(jie)著(zhu)使(shi)用(yong)120粒度的磁盤上研(yan)磨3分鐘(zhong)。在研(yan)磨期間(jian)每一樣品(pin)之荷重將(jiang)選擇在25N和50N之間(jian)且轉速設定(ding)在300rpm之情況下。
3. 拋(pao)光(guang):隨后(hou)三個步驟處理之后(hou)將得到滿足的結果。首先使用9μm鉆石(shi)懸浮物在MD-Largo磁盤(pan)(pan)上(shang)研磨10分(fen)(fen)鐘、接著使用3μm鉆石(shi)懸浮物在MD-Dac布磁盤(pan)(pan)上(shang)研磨8分(fen)(fen)鐘、最后(hou)使用1μm鉆石(shi)懸浮物在MD-Nap布磁盤(pan)(pan)上(shang)研磨4分(fen)(fen)鐘。
在(zai)(zai)研磨期(qi)間每(mei)一樣(yang)品之(zhi)荷(he)重將選擇在(zai)(zai)25N和50N之(zhi)間且轉速設定在(zai)(zai)150rpm之(zhi)情況下。在(zai)(zai)完成以上步驟之(zhi)后將樣(yang)品使用超音波(bo)清(qing)潔(jie)之(zhi)。
4. 腐(fu)蝕步(bu)驟一般由腐(fu)蝕液給予完成(cheng)。腐(fu)蝕液的(de)種類、腐(fu)蝕的(de)時間(jian)依粉末冶金材料之不同而有所差(cha)異,請洽本公司人(ren)員。
貳、氣孔(kong)數(shu)量影像(xiang)分析(xi):
1. 含(han)浸(jin):在鑲埋之前,內部的(de)氣孔隙(xi)必須加以真空(kong)樹脂(zhi)含(han)浸(jin)處理。
2. 鑲埋(mai):將樣品熱埋(mai)在玻璃纖(xian)維或分子強(qiang)化(hua)樹脂為(wei)了增加邊(bian)緣保持力(li)。
3. 研磨(mo):密度(du)小于7g/cm3之(zhi)(zhi)樣(yang)品使(shi)用80粒度(du)的MD-Piano磁(ci)盤(pan)上研磨(mo)2分鐘(zhong),接著使(shi)用120粒度(du)的磁(ci)盤(pan)上研磨(mo)3分鐘(zhong)。在研磨(mo)期間(jian)每一樣(yang)品之(zhi)(zhi)荷(he)重將(jiang)選擇(ze)在25N和50N之(zhi)(zhi)間(jian)且轉速設定在300rpm之(zhi)(zhi)情況下。
密度大于7g/cm3之樣(yang)品使用1200粒(li)度的磁盤上(shang)研磨2~3分鐘。在(zai)研磨期間(jian)每(mei)一樣(yang)品之荷重(zhong)將選擇在(zai)15N且轉速(su)設定在(zai)300rpm之情況(kuang)下。
4. 拋(pao)光(guang):密度(du)小(xiao)于7g/cm3之樣品,首(shou)先使(shi)用9μm鉆(zhan)石(shi)(shi)(shi)懸(xuan)浮物在MD-Largo磁(ci)盤上研(yan)(yan)(yan)磨(mo)10分(fen)鐘(zhong)、接著使(shi)用3μm鉆(zhan)石(shi)(shi)(shi)懸(xuan)浮物在MD-Dac布磁(ci)盤上研(yan)(yan)(yan)磨(mo)8分(fen)鐘(zhong)、最后使(shi)用1μm鉆(zhan)石(shi)(shi)(shi)懸(xuan)浮物在MD-Nap布磁(ci)盤上研(yan)(yan)(yan)磨(mo)4分(fen)鐘(zhong)。
在研磨期間(jian)(jian)每(mei)一樣(yang)品(pin)之(zhi)荷(he)重將選擇在25N和(he)50N之(zhi)間(jian)(jian)且轉速設定(ding)在150rpm之(zhi)情況下。在完成(cheng)以上步驟之(zhi)后將樣(yang)品(pin)使(shi)用超音波清潔之(zhi)。
密度大于7g/cm3之(zhi)樣(yang)品(pin)是不同之(zhi)處理(li)方式,首先三個步(bu)(bu)(bu)(bu)驟(zou)使(shi)用(yong)(yong)30、15、9μm 鉆(zhan)(zhan)石(shi)膏在(zai)(zai)附(fu)有(you)自黏性穿孔布(bu)(bu)的鐵盤(pan)上研(yan)磨、在(zai)(zai)15、9μm鉆(zhan)(zhan)石(shi)膏拋光(guang)之(zhi)間加(jia)入含有(you)0.05%硝酸腐(fu)蝕液的酒(jiu)精冷(leng)液體是被推薦的。剩下的步(bu)(bu)(bu)(bu)驟(zou)使(shi)用(yong)(yong)6、3和1μm鉆(zhan)(zhan)石(shi)懸浮物(wu)在(zai)(zai)絲絨(rong)布(bu)(bu)磁盤(pan)上研(yan)磨,全部過程約(yue)25分鐘(zhong)。這酒(jiu)精冷(leng)液體必須不含硝酸腐(fu)蝕液。在(zai)(zai)研(yan)磨期(qi)間每一樣(yang)品(pin)之(zhi)荷重將(jiang)選擇(ze)在(zai)(zai)20N且轉速設定(ding)在(zai)(zai)150rpm之(zhi)情(qing)況下。假如需要則在(zai)(zai)最(zui)后(hou)步(bu)(bu)(bu)(bu)驟(zou)再使(shi)用(yong)(yong)氧化硅拋光(guang)懸浮物(wu)研(yan)磨10sec,在(zai)(zai)完成以(yi)上步(bu)(bu)(bu)(bu)驟(zou)之(zhi)后(hou)將(jiang)樣(yang)品(pin)使(shi)用(yong)(yong)超音波(bo)清潔之(zhi)。
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